TaNiS5 晶體

品名：TaNiS5 晶體

制造方法：化學(xué)氣相沉積法， Chemical Vapor Deposition （CVD）

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

晶體大小：3-10nm

晶體種類：Magnetic semiconductor

純度：>99.999%

表征方法：EDS，SEM，Raman

晶體生長(zhǎng)方式：CVD化學(xué)氣相傳輸法

應(yīng)用領(lǐng)域：

光電器件，微電子器件，生物傳感，化學(xué)傳感等領(lǐng)域。